PlasmaQuant 9100
Découvrez des performances analytiques, une flexibilité d’application, une robustesse et une fiabilité supérieures avec le spectromètre d’émission optique PlasmaQuant 9100. L’optique haute résolution et la tolérance exceptionnelle de la matrice garantissent une analyse efficace et d’une sensibilité unique des échantillons géologiques, des métaux de haute pureté, des échantillons chimiques et pétrochimiques, et sols et eaux usées industrielles.
Ajoutez de la clarté, de la simplicité et de la confiance à vos routines analytiques les plus délicates
Découvrez des performances analytiques, une flexibilité d’application, une robustesse et une fiabilité supérieures avec le spectromètre d’émission optique PlasmaQuant 9100. L’optique haute résolution et la tolérance exceptionnelle de la matrice garantissent une analyse efficace et d’une sensibilité unique des échantillons géologiques, des métaux de haute pureté, des échantillons chimiques et pétrochimiques, et sols et eaux usées industrielles.
Dans l’analyse de traces de matériaux complexes, c’est l’échantillon qui dicte vos besoins instrumentaux. Des teneurs élevées en matrice nécessitent des performances plasma élevées. Les limites de détection uniques nécessitent une conception de spectromètre unique. Notre technologie ICP-OES haute résolution vous donne une confiance inconditionnelle dans vos résultats analytiques.
Des résultats sur lesquels vous pouvez compter
La faisabilité de l’analyse de traces dans des échantillons hautement concentrés par ICP-OES dépend fortement de la performance instrumentale du plasma vis-à-vis de types d’échantillons variant rapidement. Avec le PlasmaQuant 9100, vous bénéficiez de la plage de travail la plus large ainsi que d’une réduction des demandes de préparation d’échantillons pour améliorer la précision, la productivité et la facilité d’utilisation.
- Travail posté économique
- Observation flexible du plasma
- Lignes d’émission sans interférence
- Prêt du système en 15 minutes
Le pouvoir de résolution unique de l’optique haute résolution garantit une sensibilité, une exactitude et une précision inégalées dans les matrices d’échantillons réels. En combinaison avec le système d’observation plasma flexible Dual View PLUS, vous pouvez déterminer à la fois les traces et les macro-éléments en une seule mesure. La conception intelligente de la torche, en combinaison avec le générateur haute fréquence, assure une performance stable du plasma pour n’importe quelle matrice d’échantillon ainsi que pour les charges d’échantillons changeant rapidement.
Série PlasmaQuant 9100 – Révélez les détails qui comptent
Découvrez la nouvelle série PlasmaQuant 9100 d’Analytik Jena. Ces appareils ICP-OES offrent des performances analytiques, une flexibilité d’application, une robustesse et une fiabilité supérieures, même pour les matrices d’échantillons et les applications les plus difficiles.
- Analyse directe des matrices salines par HR ICP-OES
- Surveillance de la qualité de l’eau potable avec HR ICP-OES
- Analyse directe de la bière par HR ICP-OES
- Analyse des impuretés dans l’huile de tournesol par HR ICP-OES
- AppNote Analyse quantitative du cannabis et du chanvre avec HR ICP-OES (Anglais)
- Surveillance de la qualité de l’eau potable avec HR ICP-OES
- Détermination des éléments traces et des teneurs en minéraux dans les huiles et graisses comestibles par HR ICP-OES-fr
- Détermination des oligo-éléments et de la teneur en minéraux des huiles et graisses comestibles par HR ICP-OES (France)
- Détection des éléments traces dans l’urée par HR ICP-OES
- Analyse de la composition d’une solution de gravure électrolytique par HR ICP-OES
- Analyse des métaux traces dans les mélanges eau-méthanol-huile par HR ICP-OES
- Analyse des spécifications de l’essence par HR ICP-OES
- Analyse des métaux traces dans les mélanges eau-méthanol-huile par HR ICP-OES
- Détermination des impuretés élémentaires dans les produits pharmaceutiques par HR-ICP-OES selon ICH Q3D et USP 232 et 233
- Détermination des impuretés élémentaires dans le sorbitol en tant qu’excipient pharmaceutique
- Détermination des impuretés élémentaires dans les antibiotiques selon USP 232 et 233 par HR ICP-OES